陶氏电子材料事业群针对铈基研磨应用领域 推出IKONIC™ 4000 系列新CMP 研磨垫产品

新的研磨垫产品具备业界领先的稳定性和低缺陷率;将 IKONIC™ 技术的优势扩大到新的应用领域

韩国首尔 - March 20, 2014

陶氏化学公司(NYSE:DOW)旗下的 陶氏电子材料事业群 今日推出了IKONIC™ 4000系列的化学机械研磨(CMP)研磨垫产品。该系列研磨垫初期将主要面向铈基应用。

"业界对于 IKONIC™ 技术 的总体反映可谓出奇的好,"陶氏电子材料事业群的CMPT 市场营销总监Colin Cameron 介绍说。"IKONIC 4000 系列为我们提供了最尖端的产品设计所普遍需要的很多至关重要的属性。这些研磨垫具备高度的可调性,能够进行定制以应对特定的要求。陶氏的大批量制造方法以及对于工艺控制的专注确保了我们客户的工艺过程中的一致性和可靠性,进一步地提高了产品效能。"

新的 IKONIC 4000 系列产品解决了以往在尖端研磨要求和低缺陷率之间的取舍难题。其全新的化学原理在整个研磨垫使用寿命内均可提供稳定的去除速率,使其特别适合用于与铈基研磨相关的高难度领域。与业界标准IC1000研磨垫相比,IKONIC 4000系列产品在成品缺陷率方面改进了70%。

IKONIC 4000系列产品是陶氏与客户协作开发的成果,目前可提供多种型号,涵盖范围很广的硬度和孔洞率。籍此可以实现定制以便应对具体的客户要求。这些研磨垫还进行了优化,以便使研磨垫的修整更为简便,并使研磨垫在整个使用寿命里均保持稳定的纹理。

IKONIC 4000系列产品已经成功通过验证,现在已可提供样品。

IKONIC CMP 研磨垫简介

IKONIC 平台 将一整套独特的化学特性与灵活的设计密度结合在一起,为客户提供了范围很广的定制解决方案。这些研磨垫旨在改进缺陷率表现,从而提高晶圆良率,并使研磨垫使用寿命更长,从而实现更高的设备使用效率。针对产出量和选择性方面的要求,IKONIC CMP 研磨垫可以实现广泛的去除率目标要求,从而满足工艺方面的需要。选择 IKONIC 系列的产品亦有助于提高研磨效率和晶圆形貌。这些优点使得IKONIC 研磨垫平台成为各种高级研磨应用的完美选择。

关于陶氏电子材料事业群

陶氏电子材料事业群是全球电子业的材料和技术供应商,引领半导体、互连技术、表面处理、光伏技术、显示器、LED 和光学市场的发展。透过分布在世界各地的高级技术中心,陶氏优秀的研发科学家团队和应用专家团队与客户密切合作,为新一代的电子技术提供解决方案、产品和技术服务。这种亲密的合作关系激发了陶氏的创新发明能力,其关键的终端应用领域涵盖了广泛的消费类电子产品,诸如个人计算机、电视显示器、智能手机、平板电脑和其他移动装置以及各种行业所使用的电子装置和系统。关于陶氏电子材料的更多信息,请浏览网页: http://www.dowelectronicmaterials.com

关于陶氏化学公司

陶氏化学公司 (NYSE: DOW)是一家多元化的化学公司,运用科学和技术的力量,不断创新,为人类创造更美好的生活。公司通过化学、物理和生物科学的有机结合来推动创新和创造价值,全力解决当今世界的诸多挑战,如满足清洁水的需求、实现清洁能源的生产和节约、提高农作物产量等。陶氏以其一体化、市场驱动型、行业领先的特种化学、高新材料、农业科学和塑料等业务,为全球约180个国家和地区的客户提供种类繁多的产品及服务,应用于包装、电子产品、水处理、涂料和农业等高速发展的市场。2013年,陶氏年销售额超过570亿美元,在全球拥有约53,000名员工,在36个国家和地区运营201家工厂,产品达6,000多种。除特别注明外,"陶氏"或"公司"均指陶氏化学公司及其附属公司。有关陶氏的进一步资料,请浏览陶氏网页:www.dow.com.


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