Dow エレクトロニック・マテリアルズ
カッパーグリーム™ HS-200

カッパーグリーム™ HS-200 不溶性陽極に対応したコンベヤーめっき装置向け光沢酸性銅めっきプロセスです。 高電流密度めっき向けに開発され、高速めっきで高い展性と引っ張り強度を持つ均一高光沢めっき皮膜を形成することが可能です。

    主要特性:
  • 高速めっきにおける高い均一電着性
  • 均一かつ高光沢なめっき皮膜
  • 高いめっきスローイング性
  • 優れた皮膜物性
  • 分析管理が可能