Dow エレクトロニック・マテリアルズ
セミ・アディティブ・プロセス 向けCIRCUPOSIT™ 7900 無電解銅めっきプロセス

fine grain structure
微細粒構造
via bottom coverage
優れたビアボトム被覆
after flash etch
フラッシュエッチング後10um L/S
 

サーキュポジット™ 7900 無電解銅めっきプロセスは特にセミ・アディティブ・プロセス向けに設計されています。新しいサーキュポジット™ 7910コンディショナーは絶縁樹脂状に対して均一に触媒を吸着させ、均一な無電解銅めっき析出を実現します。

    主要特性:
  • 微細な無電解銅めっき析出
  • マイクロビアに対する優れためっきカバーリング性
  • HASTおよびリフロー後においても優れた密着強度
  • 均一なめっき析出
  • 優れたビア接合信頼性
  • 耐マイグレーション性
  • 優れた浴安定性