Dow エレクトロニック・マテリアルズ
サーキュポジット™ 4000 水平式無電解銅めっきプロセス

Circuposit 4000 Processサーキュポジット™ 4500 無電解銅は水平処理ラインで使用されるように設計された自己アクセレレーション型無電解銅浴であるとともに、薄付け銅また厚付け銅のいずれの用途にも使用できます。

    主要特性:
  • 幅広い基材種類に対する優れた適応性
  • 薄板またはコア(厚み:50µm)に最適
  • 薄付け銅、厚付け銅のいずれの用途にも適用可能
  • 作業環境に配慮したクローズドシステム
Excellent Via Coverage
優れたビア被覆
Fine Grain Deposit
微細析出