Dow 电子材料
光刻材料
陶氏电子材料事业群在光刻材料领域一直是领军人物，在提供尖端的光刻创新技术和工艺方面拥有三十多年的经验。陶氏将这种专业素养引入LED市场，推出一系列的正型g-Line和i-Line 光阻和相关的辅助产品。这些材料特别适宜于用于LED制造的成像工艺步骤，包括图案化蓝宝石基材(PSS)、正型和负型光刻工艺步骤等。
陶氏的LED光阻能够满足所有的关键性能指标：
- 解析度高
- 优异的耐蚀刻性能
- 聚焦深度宽
- 热稳定性
我们的光刻材料采用最严格的品质标准进行制造，满足半导体和化合物半导体制造工艺的各种苛刻要求。
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1 μm的特征尺寸，3 μm的膜厚， i-Line波长 |
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0.350 μm 的特征尺寸，12,000Å的膜厚，i-Line波长 |
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