Dow 전자 재료
RONASTAN™ EC-1 전해 주석 도금

RONASTAN™ EC-1은 광범위한 도금 공정 전반에 적용이 가능한 산성 주석 도금액으로 부드럽고 미세한 입자의 도금 피막을 만들어줍니다. Ronastan EC-1 도금 피막은 인쇄 회로 기판 제조용 에칭 레지스트로 사용할 수 있습니다. 또한 이 공정은 관통홀과 마이크로비아에 적용 할 수 있으며 Aspect 비가 높은 제품에서도 탁월한 균일 전착성 및 도금 분포를 얻을 수 있습니다.

    주요 잇점:
  • 탁월한 안정성
  • 일관되고 안정적인 성능
  • 친환경 제품(NPE 무함유)
  • DFR에 대한 손상 최소화
  • 분석을 통한 손쉬운 관리