Dow 전자 재료
반도체 장비
다우 전자 재료는 반도체 장비 시장에 CVD Silicon Carbide™ 재료를 공급하는 선도 업체로서, 이 재료는 특히 에칭 및 열 처리를 포함한 반도체 처리에 이상적인 세라믹입니다. 우리의 실리콘 카바이드는 CVD(Chemical Vapor Deposition) 공정을 통해 생산되며, 이는 기존 형태의 실리콘 카바이드는 물론 기타 세라믹, 석영 및 금속에 비해 뛰어난 성능을 발휘합니다. 이 재료는 화학 실과 베어링, 장비 부품, 반도체 웨이퍼 처리, 에칭 챔버 부품, 광학 부품 및 기타 까다로운 응용 분야에서 탁월한 성능을 보장합니다.
다우 고유의 CVD 공정은 우수한 성능 특성의 CVD 실리콘 카바이드가 본래의 장점을 제대로 발휘할 수 있도록 설계되어 있습니다.
- 낮은 열팽창 계수
- 높은 열전도율
- 우수한 강도 및 경직도
- 유공성이 없는 이론 밀도
- 경량에 우수한 경도 보장
다우는 혁신 기술을 주도하는 업체로서 고객의 응용 분야에 맞춰 재료 성능을 극대화하는 방법을 알고 있습니다. CVD 실리콘 카바이드 재료로 만든 부품은 고객의 정확한 규격에 맞춰 다양한 형태와 크기로 가공할 수 있습니다.